靜磁屏蔽:為了使雜散磁場集中到屏蔽罩殼體上,屏蔽罩應具有盡可能高的磁導率。所有磁導率高的軟磁材料,如電磁純鐵、球墨鑄鐵、坡莫合金、硅鋼、軟磁鐵氧體等,原則上都可選用。設計上應按磁屏要求、價格、殼體強度、加工性能等,綜合考慮后選定。低頻電磁屏蔽:除屏蔽靜磁外,還需兼屏蔽變化的電磁場。如工頻電磁場等。除要求磁導率高外,還要求電導率高。較理想的材料是坡莫合金,考慮到價格和加工因素,大的屏蔽罩以電磁純鐵為宜。坡莫合金中含鎳量高于40%時,磁導率和電導率都很好。此外,含鋁15%~16%左右的鐵鋁合金也是常用的磁屏材料。技術廣泛應用于電力系統及煤炭、冶金、石化等工業領域,具有體積小、無污染氣體排放等優勢 [1] [4] [7]。普陀區智能化真空滅弧室性能
橫向金屬柵片滅弧橫向金屬柵片又稱去離子柵,它利用的是短弧滅弧原理。它使用磁性材料的金屬片置于電弧中,將電弧分成若干短弧,利用交流電弧的近陰極效應和直流電弧的近極壓降來達到熄滅電弧的目的。橫向金屬柵片滅弧情況如圖4所示。柵片的材料一般采用鐵,當電弧靠近鐵柵片時,由于鐵片為磁性材料,所以柵片本身就具有一個把電弧拉入柵片的磁場力(當電弧移近金屬柵的上沿時,鐵柵片又具有把電弧拉回的特性,可防止電弧逸出柵外燒損其他物件)。青浦區智能化真空滅弧室對比價在上、下觸頭的對接面上各焊上一塊銅鉻合金片,一般厚度各為3mm。
按外殼分:玻璃真空滅弧室、陶瓷真空滅弧室。按用途分:斷路器用真空滅弧室、負荷開關用真空滅弧室、接觸器用真空滅弧室、重合器真空滅弧室、分段器用真空滅弧室及其它特殊用途真空滅弧室。主要由氣密絕緣外殼、導電回路、屏蔽系統、觸頭、波紋管等部分組成陶瓷外殼真空滅弧室。氣密絕緣系統由玻璃或陶瓷制成的氣密絕緣外殼、動端蓋板、定端蓋板,不銹鋼波紋管組成了氣密絕緣系統。為了保證玻璃、陶瓷與金屬之間有良好的氣密性,除了封接時要有嚴格的操作工藝外,還要求材料本身的透氣性盡量小和內部放氣量限制到極小值。不銹鋼波紋管的作用不僅能將真空滅弧室內部的真空狀態與外部的大氣狀態隔離開來,而且能使動觸頭連同動導電桿在規定的范圍內運動,以完成真空開關的閉合與分斷操作。
真空滅弧室的基本結構如圖5所示。外殼4是用玻璃、陶瓷或微晶玻璃等無機絕緣材料做成的,呈圓筒形狀,兩端用金屬蓋板封接組成一個密封容器。外殼內部有一對觸頭5,其中靜觸頭匿定在靜導電桿1的端頭,動觸頭固定在動導電桿7的端頭。動導電桿通過波紋管6和金屬蓋板的中心孔伸出真空滅弧室外。動導電桿在中部與波裂管的一個端口焊在一起。波紋管的另一個端口與金屬蓋板焊接。波紋管是一種彈性元件,側壁呈波浪狀的金屬管,它可以縱向伸縮。氣體放電分為自持放電與非自持放電兩類,電弧屬于氣體自持放電中的弧光放電。
真空滅弧室按用途可以分為斷路器用、負荷開關用、接觸器用和特殊用途等分類。斷路器用的真空滅弧室要求具有開斷短路電流的能力,用于電路和電氣設備的過載和短路保護,一般不經常操作,短路電流的開斷次數可達30~100次。負荷開關用的真空滅弧室只要求開斷負荷電流,即開斷額定工作電流。它常與熔斷器配套組合,由熔斷器作短路保護。在負載情況下的開斷次數為200~300次。接觸器用的真空滅弧室要求在一定負荷電流下能作頻繁操作,它的操作次數可達到50萬次到100萬次,甚至更多。也常和熔斷器串聯配套使用。高開斷能力。要求材料本身的導電率大,熱傳導系數小,熱容量大,熱電子發射能力低。青浦區智能化真空滅弧室對比價
屏蔽系統吸收電弧生成物的量越大,說明他吸收的能量也越大,這對增加真空滅弧室的開斷容量起良好作用。普陀區智能化真空滅弧室性能
真空滅弧裝置真空滅弧是使觸頭電弧的產生和熄滅在真空中進行,它是依據零點熄弧原理,以真空為熄弧介質工作的。在真空中氣體很稀薄,電子的自由行程遠大于觸頭間的距離。當真空度為10-5mm汞柱時,電子的自由行程長達43m。自由電子在弧隙中作定向運動時幾乎不會和氣體分子或原子相碰撞,不會產生碰撞游離。所以將觸頭置于真空中斷開時產生的電弧是由于陰極發射電子和產生的金屬蒸氣被電離而形成的。當電弧電流接近零時,陰極發射的電子和金屬蒸氣減少,弧隙中殘留的金屬蒸氣和等離子體向周圍真空迅速擴散。這樣,弧隙可以在數微秒之內由導電狀態恢復到真空間隙的絕緣水平。因此,在真空中觸頭有很高的介質恢復速度、絕緣能力和分斷電流的能力。普陀區智能化真空滅弧室性能
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