本發明涉及剝離液技術領域:,更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術::電子行業飛速發展,光刻膠應用也越來越。在半導體元器件制造過程中,經過涂敷-顯影-蝕刻過程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時不能損傷任何基材,才能再進行下道工序。因此,光刻膠的剝離質量也有直接影響著產品的質量。但是傳統光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻,但對于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),傳統剝離液親水性不夠,水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術實現要素:本發明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實現上述目的,本發明采用如下技術方案:本申請公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,包括以下質量組分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;環胺與鏈胺:3-7%;緩蝕劑:%%;潤濕劑:%%。的技術方案中,所述的酰胺為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種。的技術方案中,所述的醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種。的技術方案中。剝離液可以用在哪些制程段上;東莞格林達剝離液推薦貨源
若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關;取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關。本申請實施例還提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設置通過管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設置有閥門開關開關。通過閥門開關控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產效率。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例中的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本申請的一些實施例,對于本領域技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本申請實施例提供的剝離液機臺的種結構示意圖。安徽顯示面板用剝離液推薦貨源國內那里可以買到效果好的剝離液;
利用提升泵將一級過濾罐中濾液抽取到攪拌釜內;再向攪拌釜中輸入沉淀劑,如酸性溶液,與前述濾液充分攪拌混合再次析出沉淀物,即二級線性酚醛樹脂,打開二級過濾罐進料管路上的電磁閥,帶有沉淀物的混合液進入二級過濾罐中,由其中的過濾筒過濾得到二級線性酚醛樹脂,廢液二級過濾罐底部的廢液出口流出,送往剝離成分處理系統。上述過濾得到的一級線性酚醛樹脂可用于光刻膠產品的原料,而二級線性酚醛樹脂可用于其他場合。綜上,實現了對光刻膠樹脂的充分的回收利用,回收率得到提高。附圖說明圖1是本實用新型的結構示意圖;圖2是過濾筒的結構示意圖。具體實施方式如圖1、圖2所示,該光刻膠廢剝離液回收裝置,包括攪拌釜10和與攪拌釜10連通的過濾罐,所述過濾罐的數量為兩個,由一級過濾罐16和二級過濾罐13組成。所述一級過濾罐16和二級過濾罐13在垂直方向上位于攪拌釜10下方,一級過濾罐16和二級過濾罐13的進料管路15、14分別與攪拌釜10底部連通,且進料管路15、14上分別設有電磁閥18、17。所述一級過濾罐16的底部出液口19連接有提升泵6,所述提升泵6的出料管路末端與攪拌釜10頂部的循環料口7連通。攪拌釜10頂部另設有廢剝離液投料口5和功能切換口3。
IC去除剝離液MSDS1.產品屬性產品形式:混合溶液產品名稱:ANS-908產品功能描述:用于COG重工,使IC與玻璃無損傷分離2.組成成份化學名稱CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRROLIDINONE872-50-445~90N,N-DIMETHYLACETAMIDE127-19-510~58Other12~45SurfactantThickener3.危險識別可燃性液體和蒸汽警示標識外觀:透明或微黃氣味:類氨對人類和環境的危害:對眼睛和皮膚有刺激性吸入:會引起呼吸道受刺激,肝臟、腎受傷害,對系統有影響攝取:會引起呼吸道和消化道刺激長期接觸:會引起皮膚傷害4.緊急處理吸入:移至空氣新鮮處,呼吸困難時輸氧、看醫生攝?。貉杆賴I吐或者看醫生皮膚接觸:用大量水沖洗15分鐘以上,更換衣服、鞋,或者看醫生眼睛接觸:用大量水沖洗15分鐘以上,嚴重時看醫生5.防火措施合適的滅火裝置:水槍、泡沫滅火器、干粉滅火器、CO2滅火器特別防護措施:穿戴防護面罩閃點:>110℃自燃溫度:>340℃6.意外泄漏注意事項人員:避免吸入,避免皮膚、眼睛、衣物的接觸,霧狀時戴防護面罩環境:迅速移除火源,避免吸入和接觸清潔方法:大量泄漏應截流并泵入容器,用吸附材料吸掉殘余物;少量泄漏用水沖洗7.存儲和搬運搬運:遠離火源、煙霧;不要吸入蒸汽。剝離液的使用方法和條件;
需要說明的是,本發明剝離液中,推薦*由上述成分構成,但只要不阻礙本發明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說明的本發明剝離液可以通過將上述成分溶于水中來制備。需要說明的是,本發明剝離液的ph若為堿性則沒有特別限定,但通常**將上述成分溶于水就成為堿性,因此沒有特別必要調整ph。另外,本發明剝離液可以通過將上述成分分別分開預先溶于水,成為抗蝕劑的剝離液套件,將它們混合來制備。具體來說,可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進而在其中使上述其它成分適當含有于各液中的抗蝕劑的剝離液套件等。通過使用本發明剝離液對施加有抗蝕劑的基材進行處理,抗蝕劑被細小地粉碎。博洋剝離液供應廠商,專業分離設備,智能研發,工程項目,經驗豐富,質量可靠,歡迎隨時來電咨詢!蘇州哪家蝕刻液剝離液按需定制
剝離液有水性和溶劑型兩種不同的區分。東莞格林達剝離液推薦貨源
本發明涉及半導體制造領域,特別是涉及一種用于包括但不限于半導體生產工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術:光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料,是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、光阻等,其作用是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠廣泛應用于集成電路(ic)、封裝(packaging)、微機電系統(mems)、光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板顯示其(led、lcd、oled)和太陽能光伏(solarpv)等領域。在半導體制造領域,離子注入層光刻膠(參考圖2)在經過高劑量或大分子量的源種注入后(參考圖3),會在光刻膠的外層形成一層硬殼(參考圖4)本發明命名為主要光刻膠層?,F有的離子注入層光刻膠在經過氧氣灰化干法剝離時,由于等離子氧與光刻膠反應速率很高,會有一部分等離子氧先穿透主要光刻膠層到達第二光刻膠層,在與第二光刻膠層反應后在內部產生大量氣體,第二層光刻膠膨脹(參考圖5),主要光刻膠層終因承受不住內層巨大的氣壓而爆裂,爆裂的光刻膠有一定的概率掉落在臨近的光刻膠上(參考圖6),導致此交疊的光刻膠不能法剝離干凈。在經過后續批作業的濕法剝離后會產生殘余物。東莞格林達剝離液推薦貨源