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江蘇經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-10-10

志成達(dá)研發(fā)的真空機(jī),在電鍍設(shè)備中的作用?

主要體現(xiàn)在某些特定的電鍍工藝(如真空電鍍或物相沉積)中,真空機(jī)為電鍍過程提供必要的真空環(huán)境,從而提升鍍層質(zhì)量。以下是兩者的具體關(guān)聯(lián)及協(xié)同作用:

1. 真空環(huán)境在電鍍中的作用

避免氧化與污染:真空環(huán)境可排除空氣中的氧氣、水蒸氣和其他雜質(zhì),防止鍍層氧化或污染,提高金屬鍍層的純度。

增強(qiáng)附著力:在低壓條件下,金屬粒子動(dòng)能更高,能更緊密地附著在基材表面,提升鍍層的結(jié)合強(qiáng)度。

均勻性與致密性:真空環(huán)境減少氣體分子干擾,使金屬沉積更均勻,形成致密、無缺陷的鍍層。

2. 主要應(yīng)用工藝

真空電鍍(物相沉積,PVD):工藝過程:通過真空機(jī)將腔室抽至低壓(如10?3至10?? Pa),利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),將金屬材料氣化并沉積到工件表面。典型應(yīng)用:手表、首飾、手機(jī)外殼的金屬鍍層,以及工具、刀具的耐磨涂層。

化學(xué)氣相沉積(CVD):工藝特點(diǎn):在真空或低壓環(huán)境中,通過化學(xué)反應(yīng)在基材表面生成固態(tài)鍍層(如金剛石涂層或氮化鈦),常用于半導(dǎo)體或精密器件。

應(yīng)用領(lǐng)域

電子工業(yè):半導(dǎo)體元件、電路板的金屬化鍍層。

汽車與航天:發(fā)動(dòng)機(jī)部件、渦輪葉片的耐高溫涂層。

消費(fèi)品:眼鏡框、手機(jī)中框的裝飾性鍍膜。 鍍銅設(shè)備的陽極磷銅板定期活化處理,維持表面活性,穩(wěn)定銅離子濃度,保障鍍層沉積速率。江蘇經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備

江蘇經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備,電鍍設(shè)備

被動(dòng)元器件在電鍍設(shè)備行業(yè)的發(fā)展趨勢

1.高精度與自動(dòng)化:

引入AI視覺檢測,實(shí)時(shí)監(jiān)控鍍層均勻性,自動(dòng)調(diào)整工藝參數(shù)。

電鍍設(shè)備與前后道工序(如激光調(diào)阻、包封)集成,形成全自動(dòng)產(chǎn)線。

2.綠色電鍍技術(shù):

推廣無氰電鍍、低COD(化學(xué)需氧量)鍍液,減少廢水處理成本。

開發(fā)脈沖電鍍技術(shù),降低金屬消耗量(節(jié)約30%以上)。

3.新型鍍層材料:

納米復(fù)合鍍層(如Ni-PTFE)提升耐磨性,適用于高頻電感。

低溫電鍍工藝適配柔性基板(如可穿戴設(shè)備用薄膜電容)。 超硬鍍層電鍍設(shè)備生產(chǎn)過程檢測設(shè)備的渦流測厚儀非接觸式快速測量鍍層厚度,實(shí)時(shí)反饋數(shù)據(jù)至 PLC 系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)整參數(shù)。

江蘇經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備,電鍍設(shè)備

酸霧凈化塔是高效處理工業(yè)酸性廢氣的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電鍍、化工等行業(yè),通過中和反應(yīng)去除硫酸霧、鹽酸霧等污染物,確保廢氣達(dá)標(biāo)排放。

一、原理與結(jié)構(gòu)

廢氣由抽風(fēng)設(shè)備引入塔底,自下而上流動(dòng),塔內(nèi)噴淋系統(tǒng)噴灑堿性吸收液(如氫氧化鈉溶液),與酸性氣體發(fā)生中和反應(yīng),生成無害鹽類和水。塔內(nèi)填料層增大接觸面積,強(qiáng)化傳質(zhì)效率;除霧裝置去除尾氣中夾帶的液滴,潔凈氣體終排放。設(shè)備主體采用耐酸堿材料(PP、玻璃鋼等),包含噴淋系統(tǒng)、填料層、除霧裝置及循環(huán)系統(tǒng),確保長期穩(wěn)定運(yùn)行。

二、分類與適用場景

填料塔:適用于中等風(fēng)量、高凈化需求(如電鍍酸洗廢氣);噴淋塔:結(jié)構(gòu)簡單,適合大流量、低濃度酸性廢氣;旋流板塔:通過湍動(dòng)增強(qiáng)反應(yīng),處理高濃度酸霧更高效。廣泛應(yīng)用于電鍍酸洗、化工生產(chǎn)、電子清洗等工序,針對性去除各類酸性污染物。

三、優(yōu)勢與系統(tǒng)配合

凈化效率可達(dá)90%~95%,耐腐蝕性強(qiáng),吸收液循環(huán)使用降低成本,且可根據(jù)廢氣特性定制塔體參數(shù)。常與抽風(fēng)設(shè)備、集氣罩等組成完整處理系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)從廢氣收集到凈化排放的全流程控制,是工業(yè)酸性廢氣治理的關(guān)鍵設(shè)備,助力企業(yè)滿足環(huán)保標(biāo)準(zhǔn),實(shí)現(xiàn)清潔生產(chǎn)。編輯分享

半導(dǎo)體滾鍍設(shè)備

是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備,主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝,實(shí)現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋,滿足集成電路封裝、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求

與傳統(tǒng)滾鍍不同,半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。

二、功能

1.金屬互連:在晶圓上形成銅導(dǎo)線。

2.凸塊制備:沉積錫、銅、金等材料,用于芯片與基板的電氣連接。

3.阻擋層/種子層鍍覆:鍍鈦、鉭等材料,防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。

三、設(shè)備組成

1.電鍍槽:

材質(zhì):耐腐蝕材料,避免污染鍍液

鍍液循環(huán)系統(tǒng):維持鍍液成分均勻,過濾顆粒雜質(zhì)

2.旋轉(zhuǎn)載具:

晶圓固定裝置:真空吸附或機(jī)械夾持,確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)

轉(zhuǎn)速控制:通過伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速,優(yōu)化鍍層均勻性

3.陽極系統(tǒng):

可溶性/不溶性陽極:銅、鉑等材料,依鍍層需求選擇

陽極位置調(diào)節(jié):控制電場分布,減少邊緣效應(yīng)

4.供液與噴淋系統(tǒng):

多點(diǎn)噴淋頭:均勻分配鍍液至晶圓表面,避免氣泡滯留

流量控制:精確調(diào)節(jié)鍍液流速,匹配不同工藝需求

5.控制系統(tǒng):

PLC/工控機(jī):集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測與反饋。

配方管理:存儲不同鍍層的工藝參數(shù) 智能電鍍設(shè)備的云端監(jiān)控平臺,實(shí)時(shí)采集全生產(chǎn)線數(shù)據(jù),通過大數(shù)據(jù)分析優(yōu)化工藝參數(shù)與能耗。

江蘇經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備,電鍍設(shè)備

龍門式自動(dòng)線通過龍門機(jī)械手(橫跨電鍍槽上方的移動(dòng)框架)和懸掛系統(tǒng),將工件按預(yù)設(shè)程序在不同工藝槽(如除油、電鍍、水洗等)間自動(dòng)轉(zhuǎn)移,全程由PLC(可編程邏輯控制器)控制,實(shí)現(xiàn)無人化連續(xù)生產(chǎn)。

組成

1.龍門機(jī)械

手采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng),雙立柱+橫梁結(jié)構(gòu),負(fù)載能力可達(dá)200-1000kg行程精度:±0.1mm(機(jī)型可達(dá)±0.05mm)移動(dòng)速度:水平0.5-2m/s,升降0.2-0.5m/s

2.軌道系統(tǒng)

精密導(dǎo)軌+齒輪齒條傳動(dòng),支持多工位并行作業(yè)防腐蝕設(shè)計(jì)(不銹鋼或鍍層保護(hù)),適應(yīng)酸堿環(huán)境

3.掛具系統(tǒng)

定制化夾具,適配不同工件形狀(如支架、吊籃)導(dǎo)電觸點(diǎn)采用銀/銅復(fù)合材料,接觸電阻<0.05Ω

4.控制系統(tǒng)

PLC+觸摸屏(HMI),預(yù)設(shè)上百種工藝配方實(shí)時(shí)監(jiān)控電流、溫度、pH值,數(shù)據(jù)存儲追溯


噴淋式電鍍設(shè)備利用高壓噴頭將電解液均勻噴灑在工件表面,加速離子交換,提高電鍍效率,形狀復(fù)雜的工件。福建一體式電鍍設(shè)備

模塊化電鍍設(shè)備支持槽體自由組合,可快速切換掛鍍、滾鍍模式,靈活適配多品種小批量生產(chǎn)需求。江蘇經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備

如何選購適合的電鍍設(shè)備:

一、明確需求鍍種與工藝

確定需處理的材料(金屬、塑料等)及目標(biāo)鍍層(鍍鋅、鍍鎳、鍍鉻、貴金屬等)。

選擇對應(yīng)工藝:掛鍍(適合大件)、滾鍍(適合小件)、連續(xù)電鍍(線材/帶材)或脈沖電鍍(高精度需求)。

產(chǎn)能規(guī)劃:估算日均產(chǎn)量(如1000件/天)及未來擴(kuò)展需求,避免設(shè)備超負(fù)荷或閑置。

產(chǎn)品特性:若涉及精密零件(如電子接插件)、復(fù)雜形狀件(如汽車輪轂),需設(shè)備具備高均勻性鍍層能力。

二、評估設(shè)備技術(shù)參數(shù)

電源系統(tǒng)

整流器穩(wěn)定性(波紋系數(shù)<5%)和調(diào)節(jié)精度(如0-500A可調(diào)),直接影響鍍層質(zhì)量。

節(jié)能型高頻電源比傳統(tǒng)硅整流器省電20%-30%。

槽體設(shè)計(jì)材質(zhì)耐腐蝕性:PP、PVC或鈦合金槽體,適應(yīng)強(qiáng)酸/強(qiáng)堿環(huán)境。

槽液循環(huán)過濾系統(tǒng):確保鍍液清潔度,減少雜質(zhì)導(dǎo)致的鍍層缺陷。自動(dòng)化程度手動(dòng)設(shè)備(低成本,適合小批量)VS全自動(dòng)線(機(jī)械臂上下料+PLC控制,適合大批量)。

智能監(jiān)控功能:實(shí)時(shí)監(jiān)測溫度、pH值、電流密度,自動(dòng)報(bào)警并調(diào)節(jié)。 江蘇經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備

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