是一種用于電鍍實驗的專業裝置,它融合了滾鍍和掛鍍兩種電鍍方式于一體。
該設備通常由鍍槽、滾桶、掛具、電源系統、攪拌裝置、溫控系統等部分組成。在進行電鍍實驗時,既可以將小型零件放入滾桶中進行滾鍍,使零件在滾動過程中均勻地鍍上金屬層;也可以通過掛具將較大或形狀特殊的零件懸掛在鍍槽中進行掛鍍,以滿足不同類型零件的電鍍需求。這種設備具有功能多樣、操作靈活、占地面積小等優點,能夠為電鍍工藝的研究和開發提供便利,幫助科研人員和技術人員更好地掌握電鍍技術,優化電鍍參數,提高電鍍質量。 模塊化電鍍設備支持槽體自由組合,可快速切換掛鍍、滾鍍模式,靈活適配多品種小批量生產需求。山東電鍍設備運輸價
1.前處理:晶圓清洗、去氧化層、活化表面。
2.裝載:將晶圓固定于旋轉載具,浸入鍍液。
3.電鍍:
施加電流,金屬離子在晶圓表面還原沉積。
旋轉載具確保鍍液流動均勻,消除厚度差異。
4.后處理:鍍層退火、清洗、干燥。
1.高均勻性:
旋轉+噴淋設計減少“邊緣增厚”現象,鍍層均勻性達±5%以內。
2.精密控制:電流密度精度:±1 mA/cm2;溫度波動:±0.5℃。
3.潔凈度保障:設備內建HEPA過濾系統,滿足Class 1000以下潔凈環境。
4.高效生產:支持多片晶圓同時處理(如6片/批次),UPH(每小時產量)可達50~100片。
1.先進封裝:2.5D/3D IC的TSV鍍銅、Fan-Out封裝中的RDL金屬化。
2.功率器件:IGBT、MOSFET背面金屬化(鍍銀、鍍鎳)。
3.傳感器與MEMS:微結構表面鍍金,提升電氣性能與可靠性。 貴州全自動電鍍設備刷鍍設備通過手持導電筆局部涂覆電解液,適用于機械零件磨損修復或特殊形狀工件的局部電鍍。
電鍍滾鍍機與電鍍生產線的關系
從屬關系:滾鍍機是電鍍生產線的執行設備之一
1.電鍍生產線的系統構成
電鍍生產線是涵蓋前處理(除油、酸洗)→電鍍處理(鍍槽設備)→后處理(清洗、鈍化、干燥)→自動化控制的完整流程系統,目標是通過電化學原理在工件表面沉積金屬鍍層(如鍍鋅、鎳、銅、鉻等)。
關鍵設備包括:鍍槽(如滾鍍機、掛鍍槽、連續鍍設備)、電源、過濾循環系統、加熱/冷卻裝置、傳輸裝置(如行車、鏈條)等。
2.滾鍍機的定位
滾鍍機是電鍍處理環節中用于批量小件電鍍的鍍槽設備,屬于電鍍生產線的“執行單元”,主要解決小尺寸、大批量工件(如螺絲、電子元件、五金件)的高效電鍍問題。與掛鍍機(適用于大件或精密件,單個懸掛電鍍)、籃鍍(半手工操作,適用于中等尺寸工件)共同構成電鍍生產線的不同鍍槽類型。
主要體現在某些特定的電鍍工藝(如真空電鍍或物相沉積)中,真空機為電鍍過程提供必要的真空環境,從而提升鍍層質量。以下是兩者的具體關聯及協同作用:
避免氧化與污染:真空環境可排除空氣中的氧氣、水蒸氣和其他雜質,防止鍍層氧化或污染,提高金屬鍍層的純度。
增強附著力:在低壓條件下,金屬粒子動能更高,能更緊密地附著在基材表面,提升鍍層的結合強度。
均勻性與致密性:真空環境減少氣體分子干擾,使金屬沉積更均勻,形成致密、無缺陷的鍍層。
真空電鍍(物相沉積,PVD):工藝過程:通過真空機將腔室抽至低壓(如10?3至10?? Pa),利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,將金屬材料氣化并沉積到工件表面。典型應用:手表、首飾、手機外殼的金屬鍍層,以及工具、刀具的耐磨涂層。
化學氣相沉積(CVD):工藝特點:在真空或低壓環境中,通過化學反應在基材表面生成固態鍍層(如金剛石涂層或氮化鈦),常用于半導體或精密器件。
應用領域
電子工業:半導體元件、電路板的金屬化鍍層。
汽車與航天:發動機部件、渦輪葉片的耐高溫涂層。
消費品:眼鏡框、手機中框的裝飾性鍍膜。 貴金屬電鍍設備配備高精度電源與凈化系統,嚴格控制金、銀鍍層純度,滿足珠寶及電子芯片的高要求。
1.鍍銅液方面
酸性鍍銅液導電性強、分散性佳,能快速鍍厚銅,常用于電子元件底層鍍銅;
堿性鍍銅液穩定性好,腐蝕性小,所得銅層結晶細、結合力強,適用于鋼鐵基體打底。
2.鍍鎳液
瓦特鎳鍍液成分簡單、易維護,鍍層光亮耐磨,在防護裝飾性電鍍中廣泛應用;
氨基磺酸鎳鍍液分散與深鍍能力優,鍍層內應力低、延展性好,多用于對鍍層質量要求高的電子、航天領域。
3.鍍鋅液里
堿性鍍鋅液陰極極化作用強,鋅層耐腐蝕性好;
酸性鍍鋅液電流效率高、沉積快,外觀光亮,不過腐蝕性強。
4.鍍金液
有物鍍金液,鍍層均勻光亮、硬度高;
無氰鍍金液則更環保。
5.鍍銀液
物鍍銀液電鍍性能好,鍍層導電導熱優;
硫代硫酸鹽鍍銀液毒性小、更環保。選擇鍍液要綜合零件材質、形狀、使用環境及實驗目的等,兼顧成本與環保。
在選擇鍍液時,需要根據待鍍零件的材質、形狀、尺寸、使用環境以及實驗目的等因素進行綜合考慮,同時還需考慮鍍液的成本、環保性和操作難度等因素。 設備維護系統集成故障診斷模塊,通過傳感器數據預判過濾機堵塞、加熱管老化等問題,減少停機時間。連續電鍍設備運輸價
鍍鎳設備配套活性炭吸附裝置,定期去除鍍液中有機雜質,防止細孔、麻點等鍍層缺陷。山東電鍍設備運輸價
提供穩定直流電,通常采用高頻開關電源或硅整流器,電壓范圍0-24V,電流可調至數千安培,滿足不同鍍種需求。
耐腐蝕材質槽體(如PP/CPVC/PVDF),尺寸設計依據生產需求,典型容積0.5-10m3,配置防滲漏雙層結構。
陽極組件:可溶性金屬(如鎳板)或不溶性陽極(鈦籃+金屬球),配置陽極袋防止雜質擴散
陰極掛具:定制化設計,確保工件均勻受鍍,接觸電阻<0.1Ω
溫控精度±1℃,流量控制誤差<5%
在線pH監測(±0.1精度)
安培小時計控制鍍層厚度
類型 適用場景 產能(㎡/h) 厚度均勻性 典型配置
掛鍍線 精密零部件 0.5-2 ±5% 多工位龍門架,PLC控制 滾鍍系統 小件批量處理 3-8 ±15% 六角滾筒,變頻驅動 連續電鍍線 帶材/線材 10-30 ±8% 張力控制+多槽串聯 選擇性電鍍 局部強化 0.1-0.5 ±3% 數控噴射裝置,微區控制 山東電鍍設備運輸價