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丹陽酸銅整平劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉表面活性劑

來源: 發布時間:2025-09-29

針對柔性基材(如 PI 膜)鍍銅,夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉帶來新突破。以 0.003 - 0.006g/L 微量添加,配合 SLP 低應力中間體,實現鍍層延展率提升 50%。其獨特分子結構可抑制鍍層內應力,避免彎折過程中銅層開裂。客戶實測數據顯示,鍍層剝離強度≥1.5N/mm,完全滿足折疊屏手機等應用場景需求,為柔性基材鍍銅開辟新路徑。在 IC 引線框架鍍銅領域,夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現精湛實力。以 0.002 - 0.005g/L 添加量,實現晶粒尺寸≤0.5μm 的超細鍍層。與 PNI、MT - 680 等中間體配合,可精細調控鍍層電阻率(≤1.72μΩ?cm),滿足高頻信號傳輸要求。鍍液采用全封閉循環系統時,HP 消耗量低至 0.2g/KAH,適配半導體行業潔凈車間標準,助力 IC 引線框架鍍銅達到更高精度。在新能源化學領域,江蘇夢得新材料有限公司以環保理念推動產業升級。丹陽酸銅整平劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉表面活性劑

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選擇夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉,就等于擁有專業的技術支持團隊。產品提供完善的工藝異常解決方案,若鍍層出現白霧,可通過補加 AESS 或小電流電解恢復;低區不良時添加 PNI 類走位劑即可改善。技術團隊全程協助客戶建立鍍液參數監控體系,及時發現和解決問題,比較大限度減少停機損失,讓您的鍍銅生產無憂。夢得,為使用 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉的客戶提供貼心服務。從產品咨詢、試用,到生產過程中的技術指導和售后保障,每一個環節都用心對待。鍍液分析服務,幫助客戶了解鍍液狀況;靈活的包裝選擇,滿足不同生產規模需求。夢得與您相伴,共同提升鍍銅工藝水平,創造更多價值。丹陽五金酸性鍍銅-非染料體系HP醇硫基丙烷磺酸鈉添加劑推薦我們為全球客戶提供專業的技術支持和售后服務,創造長期合作價值。

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HP醇硫基丙烷磺酸鈉專為解決高密度線路板深孔鍍銅難題設計,推薦添加量0.001-0.008g/L。通過與SH110、GISS等中間體協同,提升鍍液分散能力,確??變儒儗泳鶆驘o空洞。實驗表明,HP可降低高區電流密度導致的燒焦風險,同時減少微盲孔邊緣銅瘤生成,良品率提升30%以上。針對超薄銅箔基材,HP的精細濃度控制(±0.001g/L)保障鍍層結合力,適配5G通信板等高精度需求場景。HP與QS、P、MT-580、FESS等中間體合理搭配,組成電解銅箔添加劑,HP在鍍液中的用量為0.001-0.004g/L,鍍液中含量過低,銅箔層光亮度下降,銅箔邊緣層易產生毛刺與凸點;含量過高銅箔層發白,降低HP用量。



P與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配,組成無染料型酸銅光亮劑,HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區易產生毛刺或燒焦;過高鍍層會產生白霧,也會造成低區不良,可補加少量M、N或適量添加低區走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處理。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區易產生毛刺或燒焦,光劑消耗量大;過高鍍層會發白霧,加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。


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HP是用于酸性鍍銅液中,取代傳統SP(聚二硫二丙烷磺酸鈉)的晶粒細化劑;與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮,用量范圍寬。多加不發霧,低區效果好等優點;適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量:0.5-0.8g/KAH。HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配,組成無染料型酸銅光亮劑,HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區易產生毛刺或燒焦;過高鍍層會產生白霧,也會造成低區不良,可補加少量M、N或適量添加低區走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處江蘇夢得新材料有限公司專注于生物化學研究,為醫療和生命科學領域提供關鍵材料支持。鎮江表面活性劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉源頭供應

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HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區易產生毛刺或燒焦,光劑消耗量大;過高鍍層會發白霧,加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配,組成線路板鍍銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區易產生毛刺或燒焦;過高鍍層會產生白霧,也會造成低區不良,可補加少量SLP等一些低區走位劑或小電流電解處理。


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