高精密環境控制設備是一款自主研發的精密環境控制產品，主要由設備主柜體、控制系統、氣流循環系統、潔凈過濾器、制冷(熱)系統、照明系統、局部氣浴等組成，為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供招高精度溫濕度、潔凈度的工作環境。該設備內部通過風機引導氣流以一定的方向循環，控制系統對循環氣流的每個環節進行處理，從而使柜內的溫濕度達到超高的控制精度。溫度穩定性蕞高可達±0.002°C，濕度穩定性蕞高可達±0.3%RH，潔凈等級蕞高可實現 ISO class 1級。擁有結合全場景非標定制能力，可滿足用戶不同環境參數及使用需求，持續領跑超高精密環控技術革新。拓展科技精密溫控單元

超高潔凈環境保障：系統可實現蕞高ISO Class 1級的潔凈環境（每立方米≥0.1μm顆粒物≤10個），這一潔凈級別極大降低了因顆粒物導致的鍵合缺陷風險。
濕度與壓力協同控制：除了溫控精度與潔凈度，系統蕞高能將濕度穩定性維持在±0.3%RH，壓力波動控制在±3Pa以內。這種多參數協同控制能力，為鍵合工藝提供了全方wei、全時段的穩定環境保障。 廣東電子顯微鏡精密溫控極測（南京）研發及設計團隊，涵蓋了產品經理、結構工程師、暖通、電氣自控等各類專業人才。

南京拓展科技旗下企業，極測（南京）技術有限公司憑借深厚的技術積淀，精心打造的精密溫控箱罩設備，以其蕞高±0.002℃高精密溫度控制及可實現潔凈度十級以上的能力，成為三坐標測量儀的蕞佳拍檔。目前精密溫控箱罩已擁有結合全場景非標定制能力，可滿足用戶不同環境參數及使用需求，比如溫濕度穩定性、潔凈度，抗微振、防磁、隔音等不同個性化需求。現已服務多家全球半導體、通信設備、顯示面板前列企業與國家重點實驗室，應用于眾多科研與生產場景。 在精密制造與檢測領域，三坐標測量儀作為獲取高精度尺寸數據的關鍵設備，其測量精度直接關系到產品質量與生產效率。而要確保三坐標測量儀穩定、精密地運行，精密溫控箱罩起著不可或缺的作用。

在高duan制造與科研領域，溫度控制的微小偏差正在扼殺技術突破：半導體光刻環節：極紫外（EUV）光刻機要求冷卻水溫度波動≤±0.001℃。傳統機組溫度控制±0.5℃的精度會導致光刻膠形變，造成納米級線寬偏差，單次工藝損失超$50萬。冷凍電鏡（Cryo-EM）成像：生物樣本溫度控制需在-180℃下維持±0.1℃穩定性。溫度波動超過閾值會使冰晶破壞蛋白質結構，3D重建分辨率從3?劣化至8?，研究成果價值歸零。高功率激光加工：光纖激光器溫度控制漂移＞±0.02℃時，熱透鏡效應導致光束焦點偏移20μm，碳鋼切割斷面粗糙度增加300%，廢品率飆升。技術本質：傳統水冷機組受限于PID控制滯后性、換熱器結垢衰減、單點故障風險，無法滿足超精密場景的溫度控制“零容忍”需求。機器設備運行、人員走動等因素也會產生微小振動，在半導體廠房的設計和施工過程中，需要充分考慮這些因素。

在半導體產業鏈中，溫度波動是導致芯片缺陷的關鍵因素之一：

蝕刻與沉積環節：極紫外（EUV）光刻、等離子蝕刻等工藝需將溫度波動控制在±0.01℃以內，若溫度漂移超過閾值，可能導致刻蝕深度不均、薄膜應力開裂等問題；

晶圓生長與加工：硅單晶生長過程中，溫度梯度變化會引起晶格缺陷，影響晶圓電學性能；

芯片測試環節：環境溫度波動可能導致測試儀器誤差增大，造成芯片分選誤判。極測精密水冷冷凍水機組以±0.001℃控溫精度（遠超行業標準）及動態負載適應能力，精zhun解決上述痛點，成為半導體工藝的“溫度守護者”。 通過整體環境溫度的精密調控，以及針對局部發熱點進行局部氣浴，配套控制潔凈度及減振處理等。浙江0.005精密溫控

穩定電子元件內部結構，應用于超聲波清洗、真空鍍膜等場景，防止清洗劑揮發并保障鍍膜質量。拓展科技精密溫控單元

合理的箱體結構有助于提升精密環控設備溫濕度的均勻性和控制效果，例如雙層保溫結構、優化風道設計等，能增強精密環控設備的保溫性能和控制精度。精密環控設備的外殼和內部材質應具備良好的耐磨性，部分還需要優良的保溫性能，以延長精密環控設備的使用壽命。極測的精密環控柜采用合理的柜體結構設計，主柜體為內部精密組件提供穩固物理空間，同時采用可拆卸鋁合金框架，方便大型設備在不同科研場所進行現場組裝，其箱體采用的高質量鈑金材質堅固耐用。  拓展科技精密溫控單元